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奧德源|圓桌對(duì)話2024第二屆電解槽技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)

2024-06-19 來(lái)源:奧德源 瀏覽數(shù):391

氫能前沿2024第二屆國(guó)際電解槽技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)2024年6月13號(hào)“2024第二屆電解槽技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)”在蘇州召開(kāi)。奧德源新材料(石家莊)

氫能前沿  2024

第二屆國(guó)際電解槽

技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)

2024年6月13號(hào)“2024第二屆電解槽技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)”在蘇州召開(kāi)。

奧德源新材料(石家莊)有限公司憑借柔性連接膜極距結(jié)構(gòu)彈性支撐復(fù)合電極這一跨越式的發(fā)展、創(chuàng)新在本屆大會(huì)氫能行業(yè)評(píng)選中榮獲“金氫獎(jiǎng)創(chuàng)新技術(shù)獎(jiǎng)”和“電極領(lǐng)軍企業(yè)獎(jiǎng)”

此屆會(huì)議聚集了院所、金融機(jī)構(gòu)、產(chǎn)業(yè)鏈專(zhuān)家學(xué)者、企事業(yè)高級(jí)決策者等,共同探討電解槽產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)、技術(shù)創(chuàng)新、瓶頸突破以及未來(lái)展望。電解槽作為制氫環(huán)節(jié)重要設(shè)備,對(duì)氫能行業(yè)的發(fā)展有著舉足輕重作用。會(huì)議邀請(qǐng)行業(yè)多位重量級(jí)嘉賓對(duì)電解槽板塊進(jìn)行多維度、多視角的全面闡釋。

作為制氫電極行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè)奧德源新材料(石家莊)有限公司技術(shù)總監(jiān)李沖先生受邀參加2024第二屆電解槽技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)“圓桌對(duì)話堿性電解槽技術(shù)專(zhuān)場(chǎng)”。

奧德源自2008年開(kāi)始研究氯堿電解槽,主導(dǎo)了氯堿電解槽彈性支撐體膜極距改造,優(yōu)化創(chuàng)新了貴金屬電極,研發(fā)了過(guò)硫酸鹽電解槽、過(guò)二硫酸及鹽酸電解槽等電解裝置。國(guó)家提出碳達(dá)峰、碳中和目標(biāo)后,研發(fā)了常壓堿性水制氫電解槽,對(duì)電解裝置行業(yè)有著深入的研究。

李沖總監(jiān)表示,氯堿電解槽從單極槽到復(fù)極槽,從低電密到高電密再到膜極距,經(jīng)過(guò)了幾十年的發(fā)展。目前堿性制氫槽相當(dāng)于氯堿槽的復(fù)極槽低電密階段,還有很大優(yōu)化空間。

近兩年隨著國(guó)內(nèi)堿性制氫電解槽的應(yīng)用,不斷出現(xiàn)運(yùn)行后性能衰減嚴(yán)重的問(wèn)題。主要原因制氫裝備產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展時(shí)間尚短,以電極生產(chǎn)企業(yè)為例,大多為2022年后逐步發(fā)展起來(lái)的,對(duì)產(chǎn)品生產(chǎn)工藝了解深度不夠,普遍存在極網(wǎng)預(yù)處理、涂層、活化不徹底等諸多問(wèn)題,造成涂層結(jié)合力差、鋁殘留量高等現(xiàn)象。電解過(guò)程中涂層逐步脫落,殘留的鋁會(huì)在運(yùn)行中逐步溶出,與電解液反應(yīng)生成鋁酸鉀或氫氧化鋁,既對(duì)電解液造成污染,影響催化性能又對(duì)隔膜造成堵塞等問(wèn)題,是電解槽運(yùn)行不穩(wěn)定的一個(gè)重要因素。

電極的發(fā)展也不是一蹴而就的,技術(shù)迭代需要通過(guò)一定時(shí)間和技術(shù)經(jīng)驗(yàn)積累,在各個(gè)生產(chǎn)環(huán)節(jié)不斷優(yōu)化,電極品質(zhì)才能不斷提高,電解槽才能長(zhǎng)期安全、穩(wěn)定、高效運(yùn)行。

李沖總監(jiān)與參會(huì)的各位專(zhuān)家展開(kāi)深入的交流和討論,旨在為中國(guó)氫能產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展提供有益的思路和建議。

李沖總監(jiān)指出了優(yōu)化電解槽性能的具體方向:

NO.1

柔性連接膜極距彈性支撐結(jié)構(gòu)

柔性連接膜極距彈性支撐結(jié)構(gòu)具有耐腐蝕,電流分布更均勻,抑制大氣泡生成,使電極與隔膜的貼合度更高,形成真正意義的膜極距,降低了電阻、節(jié)能效果顯著等優(yōu)異特點(diǎn)。

NO.2

優(yōu)異性能的電極

    其表現(xiàn)為涂層結(jié)合力更強(qiáng)、鋁殘留量低、比表面積大等特點(diǎn)。

NO.3

隔膜的發(fā)展趨勢(shì)

 隔膜應(yīng)具備更薄、更柔軟、離子通過(guò)性更高、面電阻低等特點(diǎn)。

未來(lái),奧德源將持續(xù)推動(dòng)堿性制氫電解槽零極距技術(shù)變革,柔性連接膜極距彈性支撐復(fù)合電極成為制氫槽主流技術(shù)路線。

公司希望與更多氫能裝備企業(yè)深化戰(zhàn)略合作,推進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈、供應(yīng)鏈、創(chuàng)新鏈協(xié)同發(fā)展,為新質(zhì)生產(chǎn)力的發(fā)展做出積極貢獻(xiàn)。


閱讀上文 >> 《香港氫能發(fā)展策略》發(fā)布!
閱讀下文 >> 河北石化協(xié)會(huì)綠氫產(chǎn)業(yè)專(zhuān)業(yè)委員會(huì)揭牌成立

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